Quantum Quench真空 - Nitrex

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Quantum Quench真空

Quantum Quench真空

Quantum Quench™真空炉は、真空容器内に可動部を持たず、冷却ガスを多方向に制御しながら選択した四分区分に供給します。この特許取得済みの設計では、特定のエリアを制御して冷却し、常に高温にさらされている主真空容器内の稼働部品によって生じる保守作業を解消します。

円形のホットゾーンと冷却の配置は、ハースエリアの下の区分、上の区分、右と左の区分の4つの区分に分かれています。冷却ガスは1つの区分からでも、複数区分の組み合わせても供給することができます。歪みを抑えるために、上下の区分から交互に冷却ガスを流すことができ、比類のない冶金的および物理的効果を得ることができます。

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システムの特徴

炉の型式最大ロード寸法標準容量最大容量温度範囲作動圧力
HVF-30136″ x 30″ x 48″ (914 mm x 762 mm x 1,219 mm)2,000 lb. (907 kg)5,000 lb. (2,268 kg)1,000 °F – 2,500 °F (538 °C – 1,371 °C)10-20 bar
HVF-40136" x 36" x 48" (914 mm x 914 mm x 1,219 mm)2,500 lb. (1,134 kg)5,500 lb. (2,495 kg)1,000 °F – 2,500 °F (538 °C – 1,371 °C)10-20 bar
HVF-70148" x 48" x 48" (1,219 mm x 1,219 mm x 1,219 mm)3,500 lb. (1,588 kg)2,400 lb. (1,088 kg)1,000 °F – 2,500 °F (538 °C – 1,371 °C)10-20 bar
HVF-701XXB48" x 48" x 72" (1,219 mm x 1,219 mm x 1,829 mm)4,000 lb. (1,814 kg)8,000 lb. (3,629 kg)1,000 °F – 2,500 °F (538 °C – 1,371 °C)10-20 bar

機能と利点

  • 市場で最も堅牢でエネルギー効率の高い設計により、業界をリードする信頼性を実現
  • 内部または外部クエンチとして利用可能
  • お客様のニーズに合わせたホットゾーン構成
  • 温度均一性は±10°F(±5°C)、温度範囲は1000°F~2400°F(538°C~1316°C)。
  • オプションの拡散ポンプで1 x10-3 Torr まで到達可能、1 x 10-5 Torr まで低減可能
  • 最新技術と大型タッチパネルで、オペレーターの操作性が向上
  • V字型の補強リブを備えた発熱体により、急速な冷却・加熱が可能
  • 発熱体を支えるのは、G-Mの特許である全幅ポジティブサポート
  • 1 11/16” 二重壁の冷却ジャケット構造
  • 均一に冷却でき、交換が容易なガスノズルデザイン
  • ホットゾーンの下部3分の1には、耐久性を高めるためにCFCフェースを採用
  • メンテナンスが容易
  • AMS2750、NADCAP、およびCQI9の各規格に準拠
  • 10~20 barの高圧焼入れ。
  • 焼入れ、焼きなまし、焼戻し、ろう付け、および焼結を含む標準的なプロセスが可能。
  • ホットゾーンの上下左右に個別に制御可能な冷却区分を設置可能

材料

  • アルミニウム
  • ニッケル
  • チタン
  • セラミック

業界と用途

  • 医療
  • 航空宇宙
  • 自動車
  • 原子力
  • エネルギー

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